EDI超纯水设备
以反渗透为前级,配合EDI电去离子技术连续制取高纯水或超纯水,减少传统离子交换酸碱再生带来的停机、药剂和排放问题。
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超纯水设备
按照电导率、电阻率、TOC、硅、微粒和微生物控制要求,配置预处理、RO、EDI、抛光混床、杀菌及循环输送系统。
设备与工艺
纯水和超纯水系统的设计重点不仅是脱盐率,还包括有机物、硅、微粒、微生物及管网二次污染控制。原水分析、目标水质、用水峰值和连续供水要求共同决定一级或双级RO、EDI及后续抛光配置。
半导体、芯片、电子、电力和制药项目对水质指标及系统材料的要求不同。设备本体、储罐、循环管路、终端过滤、消毒方式和在线仪表应按项目标准统一设计。
典型工艺
实际流程需依据原水检测、处理规模、出水指标、运行时间和现场条件进行计算与校核。
项目选型
产品目录
以RO、EDI、离子交换和卫生级后处理单元组合,服务半导体、芯片、电子、电力、制药、食品饮料及实验室等高水质场景。
以反渗透为前级,配合EDI电去离子技术连续制取高纯水或超纯水,减少传统离子交换酸碱再生带来的停机、药剂和排放问题。
查看详情面向半导体、芯片、集成电路和精密电子清洗,将预处理、双级RO、EDI、脱气、紫外线、抛光混床及终端过滤组合为稳定的超纯水制备与循环系统。
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采用反渗透膜分离技术,在高压泵作用下截留水中盐分、有机物、胶体、微生物和细菌等杂质,是工业纯水、饮用纯水和超纯水前级处理的核心设备。
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面向制药、医疗器械和医院相关用水场景,采用预处理、双级反渗透、EDI或离子交换及卫生级储存分配系统,重点控制微生物和再污染。
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利用阳离子、阴离子或混合离子交换树脂去除水中离子,可用于软化、除盐、精处理和特定离子回收,适合与RO、EDI等系统组合。
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根据饮料配水、瓶装水、食品加工和清洗用途,组合多介质过滤、活性炭、超滤、RO、臭氧或紫外线,兼顾口感、矿物组成和微生物控制。
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安装在反渗透、纳滤、超滤或精密设备前端,通过可更换滤芯截留细小颗粒,保护高压泵、膜元件和后续设备免受颗粒污染。
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采用折叠、熔喷、钛棒或其他滤芯对水和工艺液体进行精密过滤,可作为膜系统前端保护或纯水终端颗粒控制单元。
查看详情常见问题
RO主要降低大部分溶解盐和有机物,EDI用于连续深度去离子,可在合适进水条件下稳定获得更低电导率的产水。
可以评估,但井水的硬度、铁锰、硅和盐分可能提高结垢风险,通常需要针对性的过滤、软化或其他预处理。
应合理设计循环流速和回路,减少盲管与滞留点,并结合紫外、臭氧、热水或化学方式进行周期消毒。